尼康起訴ASML/卡爾蔡司光刻機專利侵權，ASML對此表示失望

光刻機是積體電路製造過程中的核心設備，也是提升先進工藝的攔路虎，中國半導體工藝提升不上去跟光刻機被禁售也有一定關係。在光刻機領域，特別是即將到來的EUV光刻機市場上，荷蘭ASML公司現在成了唯一的選擇，儘管一套EUV光刻機售價超過1億歐元，但是Intel、三星、TSMC公司依然大把砸錢升級EUV光刻機。曾幾何時，日本公司在光刻機領域也是稱霸一方的，光學實力強勁的尼康、佳能也是光刻機市場巨頭，不過現在日系公司在光刻機輝煌不再。意外的是，

今天尼康公司宣佈在全球起訴ASML及合作夥伴卡爾蔡司侵犯了尼康的專利權

。

ASML的EUV光刻機在新一代半導體市場上炙手可熱

在光刻機領域，大家現在只知道荷蘭ASML公司，EUV光刻機更是要看ASML的進展，但在90年代日本的尼康、佳能公司因為光學實力雄厚，在半導體製造裝備領域開拓的也早，當年比ASML公司還要輝煌，Intel之前的半導體工廠就大量使用了尼康的Ar-F immersion光刻機，但是現在包括Intel、TSMC、三星及GF在內的主要半導體公司都轉向了ASML的光刻機，前三家公司之前還大筆投資了ASML公司，以推動ASML公司的EUV光刻機研發，同時他們也是ASML EUV光刻機最主要的用戶。

後兩家去年宣佈達成戰略合作

，ASML斥資20億美元入股卡爾蔡司SMT公司，雙方將合作研發數值孔徑在0.5以上的EUV光刻機，可以進一步將目前0.33孔徑光刻機的印刷尺寸從13nm減少到5nm，這些技術意義重大，不過難度也很高，預計到2024年才能有產品問世。

尼康在光刻機市場沉淪了這麼久，今天忽然宣佈起訴荷蘭ASML及其合作夥伴卡爾蔡司SMT公司。尼康指出ASML去年76.3%的營收——大約是35億歐元，都來自沉浸式光刻設備，尼康公司認為這些設備使用了他們的專利技術。尼康將尋求禁令停止侵權設備銷售，並要求ASML及卡爾蔡司SMT賠償他們的損失。

根據尼康所述，2001年他們就在美國起訴ASML公司侵犯了他們的沉浸式光刻技術專利權，2004年雙方簽署了交叉授權，舊的專利授權是永久性的，部分專利授權到2009年12月31日。

雙方同時聲明在2010年1月1日到2014年12月31日期間互不起訴雙方的專利侵權。

對於尼康公司突然發起專利訴訟，ASML公司隨後也作出公開回應，他們指出尼康的指控是毫無根據也毫無必要。過去的幾年中，ASML一直希望跟尼康公司就專利授權延長展開談判，但是尼康公司並未作出回應，現在選擇採取法律行動，ASML對此感到失望。

不過ASML依然希望跟尼康公司達成和解，認為雙方應該在市場上而非法庭上展開競爭。

PS：話說回來，尼康要是能在市場上競爭過ASML公司何必選擇專利戰？一旦到了打專利戰的地步，說明雙方已經無法正面競爭了，畢竟現在的光刻機市場幾乎被ASML獨佔了，尼康的市場份額在新工藝中可以忽略不計了。

光刻機對大多數人來說顯得太高端，有興趣瞭解半導體製造工藝的讀者可以加小超哥（ID：9501417）微信，可以具體諮詢處理器製造過程中的每個步驟。