化妝品GMP無塵室的微振控制

化妝品GMP無塵室的微振控制：
1、在結構選型、隔振縫設置，壁板與地面及頂棚連接處，應按微振控制要求設計。
2、無塵室與周圍輔助性站房內有強烈振動的設備及其連接管道，應採取主動隔振措施。
3、應確定無塵室內外各類振源對化妝品無塵室精密設備，精密儀器儀錶位置處的綜合振動影響，以決定是否採取被動隔振措施。
精密設備、精密儀器儀錶的容許振動值，應由生產工藝和設備製造部門提供，當生產工藝和設備製造部門難以提供容許振動值時，可參照《隔振設計規範》GBJ22執行。

精密設備、精密儀器儀錶的被動隔振設計應具備下列條件：
1、周圍振源對其綜合影響的振動資料。
2、設備、儀器儀錶的型號、規格及輪廓尺寸圖。
3、設備、儀器儀錶的品質、質心位置及品質慣性矩。
4、設備、儀器儀錶的底座外輪廓圖、附屬裝置、管道位置及坑、溝、孔洞尺寸、地腳螺栓及預埋件位置等。
5、設備、儀器儀錶的調平要求。
6、設備、儀器儀錶的容許振動值。
7、所選用或設計的隔振器或隔振裝置的技術參數，外形尺寸及安裝條件。

精密設備、精密儀器儀錶的被動隔振設計應考慮：

1、隔振台座的剛度。
2、設備、儀器儀錶運行時，由於品質及質心位置的變化引起隔振台座傾斜的校正措施。
3、隔振系統各向阻尼比不應小於0.15。
4、隔振措施不應影響無塵室內的氣流流型。