工業潔淨技術和生物潔淨技術必將隨著科學技術的發展和工業產品的日新月異而快速地發展，成為現代工業生產和科學實驗活動不可缺少的重要技術標誌之一。
目前，潔淨技術已廣泛應用於各行各業或其他要求防止粒子污染、微生物污染的環境控制、由於各行業間差距較大，且要求不同，因此控制環境的內容、指標均不相同。下面就來對常見的行業潔淨技術的要求進行總結。
藥品是用於預防、治療疾病和恢復、調整機體功能的特殊商品，它的品質直接關係到人的健康和安危。如果一些藥品在製造過程中受到微生物、塵粒等污染或交叉污染，可能會產生預料不到的疾病和危害。
2、醫療應用及醫學研究中的潔淨室要求
以積體電路為代表的工業環境控制中多採用工業潔淨技術和工業潔淨室；而在醫學中，多採用生物潔淨室進行微生物污染控制。在生物潔淨室裡，這些微生物多由細菌和真菌組成，粒徑尺寸在0.2um以上，常見的細菌粒徑都在0.5um以上，並且多數依附在其他物質微粒上。生物污染管道不僅通過空氣，還與人體、與操作人員的服裝有關。在醫學研究領域中，生物實驗室、無菌實驗室以及供生物化學、醫學實驗用的“特殊飼養動物”飼養室也都十分需要控制微生物污染。
3、精密機械和精細化工產品生產的潔淨室要求
隨著科學技術的發展，許多工業產品的生產加工對生產環境中的含塵濃度提出極高的要求，這就需要其生產環境中具有一定的空氣潔淨等級和控制生產過程所需各類相關物質的供應品質。例如，在膠片生產中，膠片若受到了塵埃的污染，將會發生乳劑氧化，活性減弱，pH值變化等，從而影響膠片的感光性能。
4、半導體、積體電路生產的潔淨室要求
半導體材料提純作為發展半導體器件的重要基礎。由於大規模和超大型積體電路的工藝要求，為得到高純度的矽材料，原料和中間媒介的高純度和生產環境的潔淨度成為影響產品品質的一個突出問題。
積體電路晶片的成品率與晶片的缺陷密度有關，而晶片的缺陷密度與空氣中粒子個數有關。因此，積體電路的高速發展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有極高的要求，而且也需進一步控制粒子數；同時，對於超大型積體電路生產環境的化學污染控制也有相關的要求。
5、化妝品、食品生產的潔淨室要求
現代化妝品中大多含有蛋白質、維生素、氨基酸、植物萃取液等，這些組分為細菌、黴菌等微生物的滋生、繁殖提供了有利條件。因此，微生物的污染是影響化妝品質量的重要因素。化妝品生產過程中使用的潔淨室的控制對象主要是塵粒、微生物，與藥品生產用的潔淨室要求類似。目前，化妝品生產用潔淨室的空氣潔淨度等級可參照藥品的GMP規範進行。